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Vol. 72. Issue 8.
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Vol. 72. Issue 8.
Pages 641-648 (August 2019)
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DOI: 10.1016/j.rec.2018.06.005
Multicenter Evaluation of Prosthesis Oversizing of the SAPIEN 3 Transcatheter Heart Valve. Impact on Device Failure and New Pacemaker Implantations
Evaluación multicéntrica del sobredimensionamiento de la prótesis transcatéter SAPIEN 3. Impacto en el fallo del dispositivo y nuevos implantes de marcapasos
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Costanza Pellegrinia, Won-Keun Kimb,c, Andreas Holzamerd, Thomas Waltherc, N. Patrick Mayre, Jonathan Michela, Tobias Rheudea, Julio Nuñeza, Albert M. Kasela, Teresa Trenkwaldera, Bernhard M. Kaessa, Michael Jonera,f, Adnan Kastratia,f, Heribert Schunkerta,f, Michael Hilkerd, Helge Möllmannb, Christian Hengstenberga,f,g,
Corresponding author
christian.hengstenberg@meduniwien.ac.at

Corresponding author: Medizinische Universität Wien, Universitätsklinik für Innere Medizin II, Klinische Abteilung für Kardiologie, Währinger Gürtel 18-20, 1090 Wien, Austria.
, Oliver Hussera
a Klinik für Herz- und Kreislauferkrankungen, Deutsches Herzzentrum München, Technical University Munich, Munich, Germany
b Department of Cardiology, Kerckhoff Heart and Lung Center, Bad Nauheim, Germany
c Department of Cardiovascular Surgery, Kerckhoff Heart and Lung Center, Bad Nauheim, Germany
d Klinik für Herz-, Thorax-, und herznahe Gefäßchirurgie, University of Regensburg Medical Center, Regensburg, Germany
e Institut für Anästhesiologie, Deutsches Herzzentrum München, Technical University Munich, Munich, Germany
f Deutsches Zentrum für Herz- und Kreislauf-Forschung (DZHK) e.V. (German Center for Cardiovascular Research), Partner Site Munich Heart Alliance, Munich, Germany
g Division of Cardiology, Department of Internal Medicine II, Medical University of Vienna, Vienna, Austria
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Abstract
Introduction and objectives

A certain degree of prosthesis oversizing (OS) is recommended for the SAPIEN 3 to achieve device success. However, an increase in OS may increase permanent pacemaker implantation (PPI) rates. We therefore investigated the influence of OS on device failure and PPI.

Methods

A total of 804 patients were treated with SAPIEN 3 at 3 centers. Multislice computed tomography-derived OS was calculated and analyzed both as a continuous variable and categorized in 5% increments with −4% to 0% as reference.

Results

Device failure occurred in 8.8% of patients. Median OS was lower in patients with device failure vs those with device success (+4% vs +8%; P=.038). A nonlinear risk pattern was shown for OS with a significantly reduced device failure rate within 4% to +22% of OS. There was no case of paravalvular leakage II+ between +10% to +20% of OS. The overall PPI rate was 16.2% and the median OS was significantly larger in patients with PPI (PPI: +9% vs no PPI: +7%; P = .025), while implantation depth did not vary in patients with vs without PPI (6.9±1.7 mm vs 6.6±1.9 mm; P=.101). The risk of PPI increased with increasing OS and was highest in the 2 highest categories.

Conclusions

An increase in OS reduces the risk for device failure but increases the risk for PPI. There was no ideal range of OS to minimize both device failure and PPI.

Keywords:
Transcatheter aortic valve implantation
Sizing
Pacemaker
Device failure
Abbreviations:
MSCT
OS
PPI
PVL
SAPIEN 3
TAVI
Resumen
Introducción y objetivos

Para lograr el éxito del dispositivo, se recomienda cierto sobredimensionamiento de la prótesis (SP) SAPIEN 3. Sin embargo, un aumento en el SP puede incrementar las tasas de implante de marcapasos definitivo (IMD). Por lo tanto, se investiga la influencia del SP en el fallo del dispositivo y el IMD.

Métodos

Se trató con SAPIEN 3 a 804 pacientes en 3 centros. El SP, determinado mediante tomografía computarizada multicorte, se calculó y analizó como variable continua y categorizada en incrementos del 5%, con –4% a 0 como referencia.

Resultados

Se produjo fallo del dispositivo en el 8,8% de los pacientes. La mediana de SP fue menor en los pacientes con fallo del dispositivo que en aquellos con éxito (el +4 frente al +8%; p=0,038). El SP mostró un patrón de riesgo no lineal, con una tasa de fallo del dispositivo significativamente reducida para valores entre el +4 y el +22%. No hubo ningún caso de fuga paravalvular II+ entre un +10 y un +20% de SP. La tasa general de IMD fue del 16,2% y la mediana de SP fue significativamente mayor en los pacientes con IMD (IMD, el +9% frente a no IMD, el +7%; p=0,025), mientras que la profundidad del implante no varió entre pacientes con y sin IMD (6,9±1,7 frente a 6,6±1,9mm; p=0,101). El riesgo de IMD aumentó con el aumento del SP y fue mayor en las 2 categorías más altas.

Conclusiones

El incremento en el SP reduce el riesgo de fallo del dispositivo, pero aumenta el de IMD. No se halló un intervalo de SP ideal para minimizar los riesgos de fallo del dispositivo e IMD.

Palabras clave:
Implante percutáneo de válvula aórtica
Dimensionamiento de la prótesis
Marcapasos
Fallo de dispositivo

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